ささやかさの閾値/反射率
制作年: 2026
素材・技法: アクリル, 絹・シルク, パネル
サイズ: 27 × 27 × 3 cm
エディション: １点物、ユニーク
サイン:あり
About the Work
- 制作年
- 2026
- 素材・技法
- アクリル, 絹・シルク, パネル
- サイズ
- 27 × 27 × 3 cm
- エディション
- １点物、ユニーク
- サイン
- あり
- クレジット
- Courtesy of Gallery Dalston
- 額装
- 相談可
- 作品証明書
- あり
- 作品の販売元
- Gallery Dalston
- 発送元地域
- 東京都
- 発送までの日数
- 3週間ほど
- カテゴリー
- 絵画
Work Details
アクリル 絹 パネル
光は誰にでも等しく降り注ぎながら、環境や物質によってその現れ方を変えます。私は、光と絵具、そして知覚の関係を軸に、平面作品やインスタレーションを制作しています。絵具という物質を通して、透過・反射・吸収といった光のふるまいを可視化し、「観る」という行為そのものを問い直しています。
強い刺激に満ちた環境のなかでは、私たちはいつしか、光のなかにいることを忘れてしまいます。本展では、心理物理学におけるウェーバー・フェヒナーの法則を背景とし、削ぎ落とされた形とわずかな色差から生まれる、ささやかな光の表情を探っています。強い刺激に慣れるほど変化に気づきにくくなり、弱い刺激のなかでは変化に敏感になる。その知覚のあり方に着目し、微細な変化を通して感覚を再調律し、強い刺激のなかで忘れられた光の機微を、身体的な感覚として取り戻すことを試みています。
私にとって絵画とは、光を永続的に宿す媒体です。知覚が受動的な反応ではなく、主体的な営みへと変わるとき、世界と個人のあいだには新たなつながりが生まれると考えています。どのような環境にあっても、光は絶えずささやかに変化しながら届いている —— 私たちはいつも、光のなかにいます。
大西 佐奈
作品詳細
展示風景
Exhibition Information
- 過去の展示
- 大西佐奈 個展「ささやかさの閾値」2026.05.23 - 05.31大西佐奈 「波と粒の間を編む」2024.05.08 - 05.19
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Artist
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三重県生まれ 《略歴》 2008 沖縄県立芸術大学大学院造形芸術研究科環境造形専攻絵画専修修了 2006 沖縄県立芸術大学美術工芸学部絵画専攻卒業 2004-05 グランドショミエール美術学校在籍 （パリ フランス） 《主な展示》 2025 個展「Colors of Light and Shadow」櫻木画廊（東京） 2024 個展「波粒のあいだ光陰をつなぐ」侶居（三重） 2024 個展「波と粒の間を編む」Gallery Dalston（東京） 2023 個展「Luminous」Gallery SOU（名古屋） 2022 個展「On the horizon」Gallery Camellia（東京） 2021 個展「Horizontal Time」ARToba（三重） 2020 公募展「シェル美術賞 2020」国立新美術館（東京） 2015 公募展「トーキョーワンダーウォール 2015」東京都現代美術館（東京） 2015 個展「Day dream」伊勢現代美術館（三重） 2015 グループ「三重の新世代 2015」三重県立美術館柳原義達記念館（三重） 2012 アートフェアKIAF Korea international contemporary art fair（韓国） 2012 アートフェアSOAF Seoul Open Art Fair（韓国） 2011 アートフェアArt Fair Red Dot Miami（アメリカ） 2011 アートフェアArt Fair Santa Fe an international contemporary art fair（アメリカ） 2011 公募展「ワンダーシード 2011」トーキョーワンダーサイト渋谷（東京）
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