ささやかさの閾値/反射率
制作年: 2026
素材・技法: アクリル, 絹・シルク, パネル
サイズ: 27 × 27 × 3 cm
エディション: 1点物、ユニーク
サイン:あり















About the Work
- 制作年
- 2026
- 素材・技法
- アクリル, 絹・シルク, パネル
- サイズ
- 27 × 27 × 3 cm
- エディション
- 1点物、ユニーク
- サイン
- あり
- クレジット
- Courtesy of Gallery Dalston
- 額装
- 相談可
- 作品証明書
- あり
- 作品の販売元
- Gallery Dalston
- 発送元地域
- 東京都
- 発送までの日数
- 3週間ほど
- カテゴリー
- 絵画
Work Details
アクリル 絹 パネル
光は誰にでも等しく降り注ぎながら、環境や物質によってその現れ方を変えます。私は、光と絵具、そして知覚の関係を軸に、平面作品やインスタレーションを制作しています。絵具という物質を通して、透過・反射・吸収といった光のふるまいを可視化し、「観る」という行為そのものを問い直しています。
強い刺激に満ちた環境のなかでは、私たちはいつしか、光のなかにいることを忘れてしまいます。本展では、心理物理学におけるウェーバー・フェヒナーの法則を背景とし、削ぎ落とされた形とわずかな色差から生まれる、ささやかな光の表情を探っています。強い刺激に慣れるほど変化に気づきにくくなり、弱い刺激のなかでは変化に敏感になる。その知覚のあり方に着目し、微細な変化を通して感覚を再調律し、強い刺激のなかで忘れられた光の機微を、身体的な感覚として取り戻すことを試みています。
私にとって絵画とは、光を永続的に宿す媒体です。知覚が受動的な反応ではなく、主体的な営みへと変わるとき、世界と個人のあいだには新たなつながりが生まれると考えています。どのような環境にあっても、光は絶えずささやかに変化しながら届いている —— 私たちはいつも、光のなかにいます。
大西 佐奈
作品詳細
展示風景
Exhibition Information
- 過去の展示
- 大西佐奈 個展「ささやかさの閾値」2026.05.23 - 05.31大西佐奈 「波と粒の間を編む」2024.05.08 - 05.19
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Artist
Artist
三重県生まれ
《略歴》
2008 沖縄県立芸術大学大学院造形芸術研究科環境造形専攻絵画専修修了
2006 沖縄県立芸術大学美術工芸学部絵画専攻卒業
2004-05 グランドショミエール美術学校在籍 (パリ フランス)














